三星宣佈，其 7 納米芯片的生產工藝 7LPP 已經進入量產，並表示基於 EUV 光刻技術的 7LPP 工藝對比現有的 10 納米 FinFET 工藝，可以提高 20% 性能、降低 50% 功耗、提升 40% 面積能效。該工藝將首先用於滿足移動計算的需求，不過，這對使用三星硬件的加密礦機也會產生積極影響。

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